水や薬液(研磨材が含まれたスラリーなど)を用いない研磨加工は乾式研磨加工(ドライポリッシング)、水や薬液を用いる研磨加工は湿式研磨加工(ウェットポリッシング)と呼ばれています。ドライポリッシングとは概ね厚さ数mm以下の平板状の加工対象に対して、ドライポリッシングホイール(乾式研磨加工用パッド)を用いて研磨し、加工対象を鏡面化する加工です。
ドライポリッシングホイールは、研磨材が含まれたパッドを円形の基台に貼り付けた構造で、研磨中に水や薬液を使用する必要がありません。加工対象の素材や構造にあわせて複数の品種があります。
このドライポリッシングホイールをテーブル面に平行になるように加工軸に取り付けて、ドライポリッシングホイールとテーブルの両方を回転させながら、テーブルに置いた平板状の加工対象に一定の荷重で押し当てることで、加工対象の面全体を加工します。
水や薬液を使用する湿式研磨加工(ウェットポリッシング)と比較し、薬液の回収や循環、廃液処理が不要となるため、作業性がよく、環境負荷の低い加工方法です。
半導体ウェーハの製造工程では、100 μm以下の厚さまで薄化加工する際に、ウェーハの裏面研削で生じた微少な研削ダメージの除去を目的として、ストレスリリーフとよばれる加工をおこなうことがあります。ドライポリッシングは、シリコンウェーハ裏面のストレスリリーフ加工などで用いられています。
ポリッシングのみをおこなうフルオートマチックポリッシャ(研磨パッドによる全自動研磨加工機)と、グラインダ(砥石による研削加工機)とポリッシャ(研磨加工機)が一体になったフルオートマチックグラインダポリッシャがあります。
ドライポリッシングホイールを上方に、加工対象をのせたテーブルを下方に配置する構造で、枚葉の研磨加工をおこないます。
研磨加工部に加えて、搬送、洗浄機能が搭載されており、加工対象をカセット単位で処理します。
研削加工部と研磨加工部を1つの装置のなかに組み込み、薄ウェーハを想定した工夫が厚さ測定、搬送、洗浄に施されています。
・半導体ウェーハ(シリコンやSiC)裏面の鏡面加工
・光学部品応用デバイス(サファイア)裏面の鏡面加工